Павел Иевлев

Текст

Huawei оформила патент на ультрафиолетовую фотолитографию

В ситуации, когда США запретили поставки оборудование для производства современных чипов тем, кого считают конкурентами на мировом рынке (это Россия и Китай), наиболее острая ситуация с фотолитографией в глубоком ультрафиолете (с длиной волны 13,5 нм), машины для которой производит только голландская ASML.

В результате действий США китайская SMIC не смогла получить уже оплаченный аппарат, для других компаний тоже покупки закрыты. (Почему США может что-то запретить коммерческой компании из Нидерландов – вопрос отдельный).

В общем Huawei собирается делать свой EUV-литограф, хотя это одна из самых сложных и дорогих технологий в мире. Патент описывает сам литограф и его ключевые компоненты, включая источник излучения, набор отражающих зеркал и «технологии управления». От патента до аппарата большой путь, так что пожелаем им удачи – нарушение монополии в этой области пойдет на пользу всему миру.

Использованные источники: Фото: ASML