Росатом сделает российский фотолитограф Его разрабатывают совместно с РАН

Росатом и РАН разработают рентгеновский фотолитограф для производства микрочипов. Речь идет о литографе на основе лазерно-плазменного взаимодействия, которое порождает рентгеновское излучение, создающее на фоторезистивных слоях различные наноструктуры.

Академик РАН Александр Сергеев заверил, что в России есть все необходимые для этого технологии и компетенции, а в проекте планируют участвовать несколько крупнейших учреждений Росатома и академических институтов. Также он напомнил, что успешная мировая программа разработки рентгеновского литографа была реализована с участием наших институтов. Технология изготовления рентгеновских зеркал, например, у нас одна из лучших в мире. Однако приобрести готовые решения Росся сейчас не может из-за санкций.

Создание отечественного фотолитографического оборудования – критически важная задача для импортозамещения производства чипов.