Павел Иевлев

Текст

В России начались испытания первого отечественного литографа

Заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак сообщил о создании и начале испытаний первого российского литографа — о необходимости его разработки Шпак упоминал еще в конце прошлого года. На данный момент оборудование такого уровня сложности собирают лишь несколько мировых компаний, включая нидерландскую ASML, Canon и Nikon.

Первый российский литограф способен выпускать чипы размером до 350 нм — это делает его пригодным для использования в автопроме, энергетике и телекоммуникациях. Для производства передовых 5- или 3-нм однокристальных систем, используемых в современных смартфонах, он пока не предназначен. «Первый отечественный литограф мы собрали, сделали. Он сейчас проходит уже испытания в составе технологической линейки в Зеленограде», — заявил Шпак на конференции ЦИПР в Нижнем Новгороде.

Василий Шпак также рассказал, что следующий этап развития включает выпуск литографа, способного создавать чипы размером 130 нанометров — он планируется на 2026 год. В дальнейших планах — разработка 90-нанометрового литографа и оборудования с поддержкой более тонких техпроцессов.

Как устроено отечественное полупроводниковое производство:

Читать на ЦО.РФ

Суверенные нанометры Как устроено отечественное полупроводниковое производство

Превращение обычного песка в микрочипы с миллиардами нанометровых деталей требует технологий и инструментов, которые создаются «всем миром». «Цифровой океан» выяснил, можно ли реализовать весь цикл в отдельно взятой стране и как работают российские производители микрочипов почти в полной изоляции

Использованные источники: