В России готовятся к производству микросхем Идет разработка собственного оборудования

Кроме МИЭТ в проекте задействованы ГК «Микрон» и Зеленоградский нанотехнологический центр. Учеными ведутся работы по изучению возможности разработки установки безмасочной рентгеновской нанолитографии с длиной волны 13,5 нм на базе синхротронного либо плазменного источника.

Разумеется, от «работ по изучению возможности» до самих микросхем путь весьма далекий, но начинать его с чего-то надо. МИЭТ получил грант Минобрнауки на реализацию проекта в области синхротронных исследований, в перспективе это даст уникальное оборудование для производства микросхем топологического уровня 28 нм и меньше.

Речь идет о технологии безмасочной рентгеновской нанолитографии — сейчас разрабатывается общий подход к ее созданию на базе действующих и запускаемых в стране синхротронов, в частности, на синхротроне ТНК «Зеленоград», НИЦ «Курчатовский институт», а также на базе отечественных плазменных источников.

На сегодня аналогов подобного оборудования и самой технологии в мире нет, если удастся ее создать в России — это будет грандиозный научный прорыв.